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第161章（第1页）

曹能能有些许得意，“那是！”

要想提高精度，和之前一样光靠富勒烯是不行了。

他们接下来的目标是几种富勒烯衍生物，一样是带酚基的，一样是含金刚烷还有其他若干。

甚至是非富勒烯体系的，也在他们研究之列。

一些则是现在普遍用的光刻胶，一些是国内学者研究地很多的9，9-螺二芴衍生物和双酚a衍生物，还有一些分子玻璃胶、酚醛树脂胶等等。（1）

这些都在他们的考察之列。

宋问声不可能因为自己有资料，就放弃研究其他的东西。

这样会故步自封。

起得比鸡早，睡得比狗晚，大概就是他们这样的了，就连饭是在等待实验的时候吃。

最忙碌的应该是宋问声。

他亲自指点那几个研究员合成富勒烯系列的衍生物，有时候还要去看看其他人合成得怎么样。

而曹能能和吴勇他们也是各自带领人研究别的，他们的经验也只是对别的，富勒烯这边他们插不上什么手。

有了宋问声时不时的指点，他们整个光刻胶小组每三天工作进度汇报上，永远都是走在最前列的。

时间只有六个月。

进入221项目大半个月的时候，他们的带酚基富勒烯光刻胶就已经验收成功，可以用在1onm-14nm的芯片制造当中。

这件喜事被迅通报给全基地，给研光刻机陷入低迷状态的研究员们带来一些鼓励和安慰。

在得知这是宋问声领导的小组之后，众人只有膜拜和感慨几个词语来形容他们此时此刻的心情了。

宋问声不愧是论文刷子！

不，应该说是科研杀手，在你意想不到的时候总是给人来那么一下，带来的不是绝望而是希望。

有了这件事情当做典型，基地里的许多研究员再次拾起刚来的时候的雄心壮志，重新上路。

曹能能和吴勇他们也在加紧，但是他们不是宋问声，没有那种如有神助的科研直觉和系统，只能靠他们的科研经验摸索。

他们也很不错，在一个月内，把以前使用的金属氧化物的聚合物光刻胶的精度提高到了可以在65nm-9onm的芯片制造当中使用，当然这里头离不开宋问声的指点。

本来有些小得意的他们，很快又被宋问声打败。

富勒烯衍生物Im-mFpT在制程1onm以内表现出了比含酚基的富勒烯光刻胶更好的灵敏度和分辨率、低线宽粗糙度、高耐蚀刻性和工业加工相容性。（1）

而宋问声他们也迅突破到了精度为5-1onm之内的芯片制造所使用的光刻胶。

作者有话说：

（1）来自于《7nm高分辨率极紫外光刻胶研究新进展》，谭俊玉；

（2）看到新闻说要有3nm的光刻机量产了，我心里一阵着急；

（3）富勒烯量产是个漏洞，我都忘记了，现在只能几句话补回来，前头光刻胶测试的时候忘记提一提中芯国际和芯片流片的问题了，大家忽略吧。

（4）谢谢大家的支持！感谢在2o22-o8-1823:53:28-2o22-o8-2o2o:17:1o期间为我投出霸王票或灌溉营养液的小天使哦

感谢灌溉营养液的小天使：春花秋月何了1o瓶；历史必修5瓶；晓雪3瓶；

非常感谢大家对我的支持，我会继续努力的！

第173章各怀鬼胎

这件事情报到应富华那里，他也不敢相信，马上就站了起来，打算去看看宋问声那里的情况。

他一直没有对光刻胶小组进行太多管教，一个是因为光刻胶研究其实独立在光刻机之外也可以进行，还有一个原因就是上面想再看看宋问声单独带领一个小组做项目会是什么样子。

宋问声已经有过多次组织实验项目的经验，领导一个小组和领导一个课题组对于他来说区别不大，只要他一日是诺奖得主，一日他都带有光环，这些人一日都不敢小瞧他。