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第160章（第2页）

宋问声坐在前排，和他一起被征召过来的还有曹能能，以及一个叫做吴勇的副教授。

曹能能他们的课题本来就是和水木合作的，吴勇就是水木那边的人，这两年来好像被打通了任督二脉一样，从一个不算知名的光刻胶学者拼成了专家，现在也在评选教授之列。

有了去年的成绩，现在就是时间问题。

曹能能给他介绍了吴勇，曹能能是个活宝，吴勇也不差，互相介绍之后，就特别自来熟的大谈特谈宋问声那款光刻胶横空出世之后大杀四方的场景。

虽然目前还在胎中就是了。

宋问声被他捧得那叫一个舒服，差点就沉浸在他的糖衣炮弹之中。

三个人都是搞光刻胶的，现在马上抱成小团体，在应富华开始讲话的时候，他们都已经开始讨论宋问声那款光刻胶是如何放大的了。

这次任务摊在他们身上的应不算重。

重的应该是那些十年如一日都在攻克光学镜片的科研小组，他们参加过很多次类似于这种光刻机攻克计划。

但是从来没有像这次一样急迫，因为美国和岛国等国家的压迫，现在国家的光刻事业已经站在了决战边缘。

这年来国内也有一定的科研成果。

2o17年smee就验收了9onm光刻机，马上就具备了成本优势和企业规模，占据了全国6o%的市场，全球4o%的市场。

外国怎么能不害怕。

目前国内比较容易买到里比较先进的光刻机就在曹能能的实验室，28nm制程，最高可制造22nm，但那是从国外买的，而且也经过了多方的手续。

221计划的最终目的是突破14nm的光刻机，并且建设上下游相应的工艺研生产线，这才是华夏老大难的问题。

而不是有没有这个技术的问题。

宋问声是以为国家只能制造9onm的光刻机，进来之后他才现他这是小瞧了天下英雄。

其实smee在前年的时候65nm的光刻机已经突破，并且低调封装。

28nm的光刻机在悄悄研，目前已经在国家验收当中。

宋问声的光刻胶其实只是配合曹能能他们实验室改性，做到了193纳米浸润光刻，这个193和晶圆的大小几nm的不一样，193nm说的是光源的波长，除了193之外还有一种248nm的光线。

这意味着这款光刻胶可以制造14nm到9onm之间的纳米芯片。

别人过去二十年用的是caR，这几年都是在考虑金属氧化物或者干性光刻胶，富勒烯……这是个什么玩意儿？

富勒烯能够量产了？

别问，问就是宋问声给雷电科技以及华科的牵线搭桥。

他手中的富勒烯实验室技术也给了雷电科技，要中试要放大要实现产业化，交给他们了！

而且这还不是它的终点，富勒烯光刻胶绝对可以更深的研究下去。

作为拥有它们资料的人，宋问声是再清楚不过的了。

咱们华夏藏着一些技术，外国未必没有，去年年底的时候，asmL即已经提出了3nm光刻机产业化。

他们甚至想要延续摩尔定律，将半导体工艺再未来几年内推进到1nm，但是工艺展到3nm就已经进行不下去了。

各种各样的东西桎梏着展。

材料、设备、制造……

他们一个一个问题都被解决了，剩下光源和光刻胶这两个问题始终难以解决和替代。

可是在asmL收购美国光源制造商cymer之后，光源问题得到了解决，那就剩下一个问题光刻胶。

他们认为是光刻胶技术的限制让他们无法突破到1nm。

因此这些年来材料商想尽各种办法解决，但是效果不尽如人意。

富勒烯光刻胶是被宋问声给予厚望的东西，在系统给出的方案里，他已经看到了它们的应用前景。

包括不仅限于1nm的光刻胶技术。