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第74章 纳米光刻机二（第1页）

也许是受到了廖老的刺激，朱易团队干劲拉满，工件台系统设计完成花了5o小时，不到3天时间。

在双工件台完成那刻，朱易长喘口气，总算没给清大丢人，虽然距整机安装完成还有几天时间，至少他们并未拖后腿。

“老师，您都两天没睡了，回去休息下吧，我们在这守着。”

朱易的一名学生说道，华卓工件这边来的只有5人，其中两人是朱易带的研究生，另外三人是公司的技术骨干。

看到海思的工作狂人24小时连转，他们自不会被比下去，团队抵达苏硅至今，每天休息时间都不5小时，朱易教授已经连续48小时未曾合眼了。

“朱总，您跟路总那边谈技术授权的事了吗？只要把苏硅的工件台技术引进，我有信心稳定9o纳米的双工件台技术。”

华卓的一名研人员说道。

“说过了，没什么问题，现在优先的是光刻机的事，虽然廖老那边说过只要能运行起来就行，但我们可不能太拉胯，如果误差太大，丢人的还是我们。”

48小时而已，距离他巅峰时期连续一周的记录还很远。

“我们这次是优先保证同步率，误差现在还不好预估，可以确定的是现在这套双工件台系统，比我们原来要好很多。”

朱易认同对方的说法，微微点头，“这次多亏海思与申城微电子的协助，不得不承认，在商业化方面，我们与海思还是有很大差距的，思维上差异更大。”

学院派与企业的差异在这刻体现得淋漓尽致，学院派考虑的是大方向与自主研差异化，企业讲究的是落地优先，效率至上。

“双工件台”

是测量台和曝光台的合称，是承载用来生产芯片的硅片的工作台，光刻机的核心组件之一。

测量台和曝光台，实际是两个形态相同的工作台，两个工作台分别位于测量位置和曝光位置，相互独立且同时运行。

当1号工作台在曝光位置进行步进扫描曝光时，2号工作台在测量位置完成硅片的上下片、三维形貌测量等工作，1号工作台完成硅片的曝光后，两个工作台交换位置和职能，如此循环往复完成硅片的高效曝光。

双工件台的研难度主要是控制方向，芯片的高精密性导致工件台的移动度与移动距离都是微观层面的，这就需要在仿真算法与精密控制上有大量的研投入。

“机会难得，所有人都要多学多看，华芯在半导体方面的技术深不见底，格局非常大，松江在建的光刻机生产线，外界都以为是笑话，这两天了解下来，是有真东西的，也许这是我们华卓的一个机会。”

朱易对团队成员吩咐道，软件方面有华芯九天，设计有睿芯，原料有硅片，现在连光刻机都在布局了，这盘棋非常大，后面没有国家的支持谁都不信。

双工件台与镜头组设计完成后，设备组开始组装光刻机，并更换升级配套的相关设备，要想升级成28纳米的双工件台duV光刻机，不仅仅是组装一台光刻机而已，整体配套的设备与工艺优化工作量仍然巨大。

好在原先的生产线大部分都还能用，海思最近已经摸清这台9o纳米的光刻机，拆卸还原过十几次，除了开始时卡住外最后几次都非常顺利。

这既有苏硅与申城微电子的工程师协助的原因，更多的是来自华微科学家本身的实力，在筛选时就已充分考虑过。

华芯、申城微电子、华卓，海思组成的联合研团队，经过几十天高强度的联合攻坚，终于在2o18年的最后一天完成了整个生产线的改造，把9o纳米精度的duV光刻机直接升级到28纳米浸没式双工件台duV光刻机。

当然，现在是否成功还未知，净室外站满了人，廖老、路阳、周怀义、何洪年、朱易，来自各家的核心技术人员，所有人都在等着设备的开机。