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第50章 这真是普通人类大脑能想出来的东西（第2页）

光刻机的演进过程十分复杂，但它的核心只围绕着三个定律。

一是摩尔定律。

简单来说，整个世界都是由“o”

和“1”

组成，而在芯片里，表示“o”

和“1”

的基本元件就是晶体管，晶体管越多，芯片的运算度就越快。

摩尔定律的意思就是说，同样大小的芯片，每隔两年里面的晶体管数量就会增加一倍，同理，性能也会增加一倍。

这就要求芯片制造得越来越精细，如今市面上的芯片已经进化到，要求两个器件之间，只能有几个纳米的距离了。

通常来说，造小的东西，核心思想就是放大，举个例子，像用机械的放大，就像杠杆这类的机械机构原理，但在纳米级精度上，机械的方法却又不够用了，所以就启用了“光”

。

那么光又怎么放大？

其实很简单，投影！

像是我们日常生活中用到的投影仪，光刻机的核心就是造一个放大的，透光的模子，把想要的形状印在模子上，光通过模子照射在硅片上，这样就能制造出小尺寸的东西。

但因为技术瓶颈，这一项技术十年前就已经不用了。

目前世界上最先进的技术是“euV”

，这是郁金香国的asmL公司用二十年研出来的。

说到这，就会引出第二个定律，瑞利判据。

总的来说，光刻机的研是个极其复杂且精细的过程，哪怕一点点纳米级错误，哪怕是一粒灰尘，都会让整个研毁于一旦！

另外还有存放光刻机的厂房，也必须是特殊材料制作，细节非常多，先第一点，厂房的光必须要求是黄色。

原因就是光刻胶对短光明显，用黄色光对于晶圆制造来说就相当于把灯给关了，就像冲胶卷必须要在暗房中一样。

且还有一个重要因素，必须要求无尘！

这也就是为什么之前曾泉带领的研究团队，在花费了数年时间，最终在最后的研时功亏一篑。

将所有细节仔细回想一遍后，6隐照常在心中问道。

“小a此次1nm光刻机的研，成功率有多少？”

【1nm光刻机的研，成功率百分之95。】

虽然不是百分百，但6隐已经心安了不少。